第二百二十四章：无法绕开的难题

       EUV光源的技术基本只掌握在花旗国Cymer公司手中，星光科技公司作为一家华夏公司，基本上不可能与対方达成技术合作，因为花旗国政府，就不会同意。

       EUV光刻机——顶级科学与顶级制造的结合。

       EUV波长只有13.5nm，穿透物体时散射吸收强度较大，这使得光刻机的光源功率要求极高，此外机器内部需是真空环境，避免空气对EUV的吸收，透镜和反射镜系统也极致精密，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也需要更先进技术去提升。

       一台EUV光刻机重达180吨，超过10万个零件，需要40个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间。总之，EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。

       所以EUV不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。

       二零一零年首发EUV光刻机，目前成为全球唯一一家EUV光刻机供应商。

       二零一零年，阿斯慢首次发售概念性的EUV光刻系统NX制程的需求却十分旺盛。2011年英特尔、三星和台急电共同收购阿斯慢23%的股权，帮助阿斯慢提升研发预算，同时也享受EUV光刻机的优先供应权。

       近年来，阿斯慢已经出货的EUV光刻机主要优先供应给台积电、三星、英特尔等有紧密合作关系的下游厂商。目前所有中国企业中，还没有任何一家企业，能够从阿斯慢订购到EUV光刻机。

       而且此时的华夏企业，对于阿斯慢的EU∨光刻机，似乎并没有很迫切的需求，毕竟阿斯慢公司的浸润式DUV光刻机，并没有停止出口华夏市场，而且星光科技集团也能生产DUV浸润式的光刻机，完全可以满足国内的需求。

       至于10纳米以下的制程工艺，华夏国内的市场需求银少，所以更高端的极深紫外线EUV光刻机，华夏国内的市场需求并不迫切。

       可是全球智能化科技，是在飞速发展的，随着科技的发展，人民对于芯片的要求会越来越高，几年之后，全球会向5G，甚至6G技术发展，那个时候要用到的智能芯片，必须要用5纳米以下的制程技术，甚至是1纳米的制程技术。

       那个时候，再怎么研究推进，浸润式DUV光刻机，也不可能达到5纳米以下的制程技术。

       研发投深紫外线暴光技术的EUV光刻机，便是最终无法绕开的办法。

       可是华夏的光刻机研发生产企业，除了一个星光科技集团，就只有沪上的微电子集团了。

       可微电子集团的光刻机技术，比星光科技集团尚且差了不少的距离，更别说和国外的几大光刻机企业相比了，微电子集团的光刻机技术，现在还停留在90纳米的制程工艺上。

       星光科技集团，集中了数以千计的科技研发人员，想要在EUV光刻机技术上有所突破，打破阿斯慢公司的技术垄断，追赶上阿斯慢，造出一台符合5纳米制程以下的EUV光刻机，并不是件很容易的事情，甚至连能不能办到，都是一个未知数。

       这并不是开玩笑，有些技术难题，不是说你努力了，你不计成本的砸了资金进去，就一定能够成功的。

       看看阿斯慢研究出EUV光刻机技术的过程，便十分的清楚了。

       如果没有花旗国科研力量的贡献，没有欧美各国一些公司的技术支持，阿斯慢也研发不出EUV光刻机。

       可以不客气的说，EUV光刻机不是阿斯慢一家公司，单独研究出来的结果。

       而且这个研发完善的光程，也长达十几年之久。

       星光科技公司再怎么历害，不缺科技研发人才，不缺研发资金，但想要研发出EUV光刻机的技术，也是比登天还难。

       关键是上游的产业链，华夏国内根本无法具备，必须要依赖进口。

       而想要进口这些高精技术，往往又受到了欧美各国的技术封锁，你有钱也未必能买到。

       最稳妥的办法，就是在国内寻求一些这方面的企业合作，投入资金和技术人员，提升这些企业的技术，力求达到能够生产出，供应星光科技集团，研发生产EUV光刻机的技术要求。

       另外就是寻求国家层面的技术支持，毕竟泱泱华夏，集全国之力，想要研发出一项技术，比星光集团一个企业的力量，不知道要大多少倍。

       星光科技集团办不成的事情，国家出面，由国家的一些科学家研究出来，还是比较容易的。

       在国家一穷二白的时候，尚且能研发出二弹一星，现在的条件比以前，要强了不知道多少倍，全力想研发出一项科研成果，应该是没有什么问题的。